쿠리타한수(주)

사업안내

초순수/순수

초순수/순수

초순수/순수 시스템

UPW/DI System

초순수/순수 시스템(UPW/DI System)은 원수(시수, 공업용수)의
미립자, 유기물, 생균, 미네랄을 제거하여 비저항 값을 이론 순수(18.25㏁.㎝)수준으로
처리하는 시스템을 제공합니다.

적용분야

반도체, 디스플레이 세정, 화학 및 약품 제조 산업, 실험실 용수 등에 적용됩니다.

UPW 생산 과정

UPW 시스템은 전처리 공정, 본처리 공정, 말단 공정으로 구성하여 UPW를 생산 및 제공합니다.

  1. 01
    원수 RAW WATER
  2. 02
    전처리 PRE-TREATMENT
  3. 03
    본처리 MAKE-UP
  4. 04
    최종처리 POLISHING
  5. 05
    사용처 USE POINT
STEP 01
전처리 공정
Pre-Treated System

원수(시수, 공업 용수) 내에서 여과 및 흡착 원리를 이용하여
부유물질(SS), 잔류 염소, CO2 등을 제거하는 공정입니다.

  • 부유물질 제거 설비: 여과기, 활성탄 탑, 마이크로 필터
  • CO2 제거 설비 : 탈기탑
STEP 02
본처리 공정
Make-up System

1차 순수 설비로, 역삼투 및 화학적 치환을 이용하여 수중의 이온성 물질을 제거하고,
분압을 이용하여 Gas성분(DO, CO2)를 제거하는 시스템입니다.

  • 이온성 물질 제거 설비 : 역삼투막(RO), 이온교환 수지, CEDI
  • Gas 성분 제거 설비 : 탈기막(MDG), 탈기탑(VDG)
STEP 03
최종 처리 공정
Polishing System

2차 순수 설비로, 1차 순수에서 제거하지 못한 잔류 이온성 물질을 제거하며,
수중 내 생균/미립자를 제거하여 이론적 순수(18.2㏁.㎝)에 가까운 초순수를 생산하는 공정입니다.

  • 이온성 물질 제거 설비 : 이온교환 수지
  • 유기물/생균 제거 설비 : UV 설비
  • 미립자 제거 설비 : Ultra Filter(UF), Final Filter 설비